Sympatec_雷射粒径分析仪_微米级(um)
1.专利设计之干式分散系统 RODOS。
2.HELOS 独家光路设计和分段测试程式。
3.HELOS+RODOS 具有瞬间分散,瞬间量测之技术,每个样品测试时间小於10秒。
4.测量精确度高,分次取样机台偏差值小於 0.3%,同机型不同机台之间比较,误差值小於 1%。
5.遵守 ISO13320,采用 Mie 氏计算模型及费氏计算模型。
1.专利设计之干式分散系统 RODOS。
2.HELOS 独家光路设计和分段测试程式。
3.HELOS+RODOS 具有瞬间分散,瞬间量测之技术,每个样品测试时间小於10秒。
4.测量精确度高,分次取样机台偏差值小於 0.3%,同机型不同机台之间比较,误差值小於 1%。
5.遵守 ISO13320,采用 Mie 氏计算模型及费氏计算模型。